微弧氧化工艺研究

微弧氧化工艺又称为微等离子体氧化工艺或阳极火花沉积工艺，是在阳极氧化工艺基础上发展而来的新兴表面处理工艺。这是一种在轻合金表面通过微等离子体放电，进行复杂的电化学、等离子化学和热化学过程原位生长氧化物陶瓷膜层的新工艺。微弧氧化工艺生成的陶瓷氧化膜厚度可达200～300μm，显微硬度最高可达HV2000以上，极大提高了铝合金的应用范围。