书籍 大遗址保护关键技术研究与开发  2的封面

大遗址保护关键技术研究与开发 2

科学技术部社会发展科技司 国家文物局博物馆司与社会文物司编

出版社

北京:文物出版社

出版时间

2010

ISBN

9787501030835

标注页数

662 页

PDF页数

673 页

书籍介绍
本书是“十一五”期间已经顺利通过科技部结项验收的国家文物局组织的国家支撑课题的成果汇编,包含多篇研究论文,具有重要的科技研究价值。
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