集成电路（IC）制程简论

本书以图文并茂的形式，简要介绍了集成电路制程。以特征线宽130nm以下为重点，涉及到集成电路制造工艺的各个方面，特别是包括短波长光源、步进与扫描照相曝光系统、CMP平坦化、双大马士革Cu布线、低K介质材料、Soc与Sip等。