书籍 真空镀膜技术的封面

真空镀膜技术

张以忱等编著

出版社

北京:冶金工业出版社

出版时间

2009

ISBN

9787502450205

标注页数

558 页

PDF页数

574 页

书籍介绍
本书论述了薄膜技术的基础理论,介绍了各种真空镀膜技术原理、真空镀膜工艺及应用特点。全书共分10章,主要内容有:薄膜与表面技术基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、化学气相沉积(CVD)技术、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、表面与薄膜分析检测技术。
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