氧化锌薄膜材料

本书针对ZnO材料的发展趋势及应用背景，深入系统介绍了ZnO薄膜材料的本征特性及其掺杂机理，涉及了一些最新的制备技术，包括有溅射法、脉冲激光沉积（PLD）、原子层外延（ALE）、金属有机物汽相外延（MOCVD）、分子束外延（MBE） 等。本书的读者对象为从事半导体薄膜材料的制备的研究人员和在校师生。