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郭方准著

购买点数

8

出版社

大连:大连理工大学出版社

出版时间

2012

ISBN

9787561170359

标注页数

142 页

PDF页数

150 页

书籍介绍
真空技术和物理学的进步紧密相关,目前已经是表面科学、半导体应用、高能粒子加速器、核聚变研究装置和宇宙开发领域不可缺少的技术。当前人类面临的四大课题:环境、能源、生命和新材料,这些课题的解决,无一例外都需要真空技术。针对这些情况,编写编写了本书,主要内容如下:真空只是概论;真空密封;影响真空度的要素;真空系统;典型的薄膜生长方式。

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图书目录

第1章 真空知识概论 1

1.1什么是真空 1

1.2真空的发现和理论基础 4

1.3几个重要的概念 8

1.4真空技术的应用 13

第2章 真空密封 15

2.1永久密封 15

2.2非永久密封 18

2.3真空法兰 23

2.4真空导入要素 30

2.5波纹管 34

第3章 影响真空度的要素 36

3.1真空检漏 36

3.2真空中的材料气体放出 44

3.3真空材料的表面净化和抛光 47

3.4真空系统的排气计算 50

第4章 真空系统 57

4.1真空系统的构成 57

4.2真空腔体 65

4.3真空泵 70

4.4真空计 84

4.5真空阀门 94

4.6各种运动导入器 101

4.7配管连接元件 115

第5章 典型的薄膜生长方式 118

5.1物理方式成膜(Physical Vapor Deposition:PVD) 118

5.2化学方式成膜(Chemical Vapor Deposition: CVD) 125

附录 129

参考文献 142

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