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第一章 概述 1

1-1光刻技术概况 1

1-2 光刻工艺过程 3

第二章 光致抗蚀剂 6

2-1光致抗蚀剂的性能 6

2-2光致抗蚀剂的配制 9

2-3光致抗蚀剂的种类 11

第三章 硅片表面清洁处理 14

3-1 硅片表面清洁处理的目的 14

3-2硅片表面清洁处理的方法 15

第四章 涂敷感光胶 18

4-1涂胶的方法和设备 18

4-2改进涂胶效果的几种措施 22

第五章 抗蚀剂膜的干燥（前烘） 25

第六章 曝光 27

6-1曝光工艺过程 27

6-2光致抗蚀剂的分辨率 29

6-3影响分辨率的几种因素 30

第七章 显影 35

7-1显影的要求 35

7-2显影对光刻质量的影响 36

第八章 抗蚀剂膜的坚固（坚膜） 39

第九章 腐蚀 40

9-1腐蚀的作用 40

9-2腐蚀液的选择 41

9-3二氧化硅的腐蚀 44

9-4硅的腐蚀 50

9-5 铝等金属的腐蚀 51

第十章 抗蚀剂膜的去除（去胶） 54

第十一章 光刻中常见的弊病及防止改进的措施 55

第十二章 光刻技术的发展动态 63

12-1大面积光刻 63

12-2明室操作 65

12-3投影光刻 65

12-4 电子束光刻和离子束掺杂 68

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