第1章 绪论 1
1.1 研究的背景和意义 1
1.2 国内外金属电解质等离子加工技术的研究现状及分析 2
1.2.1 等离子体的定义 2
1.2.2 等离子体技术的发展和等离子体的分类 4
1.2.3 气体放电理论 5
1.3 国内外金属零件表面抛光技术的研究现状及分析 9
1.3.1 机械抛光 9
1.3.2 化学抛光和电解抛光 10
1.3.3 化学机械抛光 12
1.3.4 超声波抛光和磁研磨抛光 12
1.4 本书的主要研究内容 13
第2章 电解质等离子抛光机理研究 15
2.1 电解质等离子抛光的机理研究 16
2.1.1 宏观机理 16
2.1.2 微观机理 17
2.1.3 抛光液成分的影响 19
2.1.4 电流、电压特性曲线 21
2.2 电解质等离子抛光实验设备设计 24
2.2.1 总体设计 24
2.2.2 主机设计 26
2.2.3 安装调试 29
2.2.4 主要特点和操作流程 30
2.3 电解质等离子抛光对不锈钢表面状态的影响 31
2.3.1 检测项目与仪器 31
2.3.2 外形尺寸 32
2.3.3 表面粗糙度 33
2.3.4 微观形貌 34
2.3.5 表面化学成分 35
2.3.6 显微硬度 37
2.3.7 耐腐蚀性 37
2.4 本章小结 42
第3章 电解质等离子内表面抛光研究 43
3.1 内表面抛光单因素实验 44
3.1.1 实验材料和检测仪器选择 44
3.1.2 不同放置方式下粗糙度随直径的变化关系 44
3.1.3 不同长度的抛光实验 46
3.1.4 电解质等离子内表面抛光基础规律 47
3.2 内表面抛光正交实验 52
3.2.1 正交实验设计 52
3.2.2 正交实验结果与分析 53
3.2.3 不锈钢盲孔和保温杯抛光 59
3.3 本章小结 63
第4章 铜合金电解质等离子抛光方法正交实验分析 64
4.1 制订实验计划 64
4.2 实验结果分析 66
4.2.1 实验结果极差分析 67
4.2.2 实验结果方差分析 68
4.2.3 因素间粗糙度的交互作用 69
4.3 实验结果验证 70
4.3.1 去除量正交实验设计 70
4.3.2 验证结果极差分析 70
4.3.3 验证结果方差分析 72
4.3.4 因素间去除量的交互作用 72
4.4 实验中单因素对抛光效果的影响 73
4.4.1 抛光液温度对抛光质量的影响 73
4.4.2 加工时间对抛光质量的影响 77
4.4.3 抛光液质量分数对抛光质量的影响 81
4.4.4 下潜深度对抛光质量的影响 85
4.4.5 抛光液流速对抛光质量的影响 88
4.5 抛光方法最优化参数对材料性能的影响 92
4.5.1 零件表面粗糙度测试 92
4.5.2 零件表面微观形貌测试 93
4.5.3 零件表层元素组成测试 94
4.5.4 零件表层硬度测试 96
4.5.5 零件表面相检测 97
4.5.6 零件表面耐腐蚀性测试 97
4.5.7 零件表面光亮度测试 99
4.6 本章小结 99
第5章 铝合金电解质等离子抛光方法研究 101
5.1 铝合金配方优化 101
5.1.1 现有抛光液配方分析实验 101
5.1.2 添加剂的选择 105
5.1.3 添加剂的一次筛选 105
5.1.4 添加剂的二次筛选 109
5.1.5 配方的最终优化 113
5.2 铝制品抛光实验 120
5.2.1 引言 120
5.2.2 三种铝合金抛光工艺条件优化 120
5.2.3 1050型铝合金制品抛光实验 123
5.2.4 5052型铝合金制品抛光实验 125
5.2.5 6061型铝合金制品抛光实验 125
5.3 本章小结 127
第6章 电解质等离子抛光产业化设备设计 128
6.1 电解质等离子抛光产业化设备的设计 128
6.1.1 总体设计 128
6.1.2 控制和操作系统选择 129
6.1.3 主机设计 132
6.1.4 挂架升降系统设计 134
6.1.5 循环搅拌冷却系统设计 136
6.1.6 控制柜设计 137
6.1.7 安装调试和主要特点 139
6.2 控制系统的开发与监控组态软件的设计 140
6.2.1 控制系统的总体方案设计 140
6.2.2 基于工控机的控制系统硬件架构 147
6.2.3 控制系统组态设计与系统测试 163
6.3 界面制作与脚本程序编写 176
第7章 展望与结论 178
参考文献 180
名词索引 186
